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技術(shù)中心 >> 閥瓣變頻研磨機(jī)專利技術(shù)說明

閥瓣研磨機(jī) 技術(shù)領(lǐng)域 本實(shí)用新型涉及閥門加工機(jī)械,尤其涉及一種閥瓣研磨機(jī)。 背景技術(shù) 目前對閥瓣、閘板密封面的精加工,有的采用手工進(jìn)行研磨加工,有的使用大型行星研磨機(jī)或者震動研磨機(jī)。 但是,采用手工進(jìn)行研磨加工,勞動強(qiáng)度大,研磨效率非常低,并且磨削質(zhì)量不穩(wěn)定,不能互換,嚴(yán)重影響了閥瓣的密封效果,進(jìn)而影響閥門的整體質(zhì)量,導(dǎo)致閥門使用后短期內(nèi)出現(xiàn)跑帽滴漏現(xiàn)象;而大型的行星研磨機(jī)加工機(jī)器造價高,研磨效率低,使用范圍受限等。 實(shí)用新型內(nèi)容 鑒于上述問題,提出了本實(shí)用新型,本實(shí)用新型提出了一種設(shè)計合理且有效改善上述缺陷的閥瓣研磨機(jī)。 為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種閥瓣研磨機(jī),包括機(jī)架,其特征在于:所述的機(jī)架上設(shè)置罩架,罩架內(nèi)安裝研磨盤,研磨盤中心固定連接中心軸,中心軸通過聯(lián)軸器和減速機(jī)與電機(jī)傳動連接帶動研磨盤旋轉(zhuǎn);研磨盤上自然放置閥瓣擋圈,對應(yīng)罩架上設(shè)置阻止閥瓣擋圈隨研磨盤公轉(zhuǎn)的周向擋板,所述周向擋板上設(shè)置與閥瓣擋圈外壁相切配合的滾輪,使閥瓣擋圈在周向力的作用下沿滾輪作自轉(zhuǎn)。 通過采用上述技術(shù)方案,工件放置于閥瓣擋圈內(nèi),研磨盤作公轉(zhuǎn)運(yùn)動,閥瓣擋圈受周向擋板限制,在周向力的作用下沿與其相切配合的滾輪作自轉(zhuǎn)運(yùn)動,閥瓣密封面研磨運(yùn)動軌跡,既有公轉(zhuǎn)又有自轉(zhuǎn),研磨效果好,且設(shè)計結(jié)構(gòu)簡單,操作靈活輕便,勞動強(qiáng)度低,一人可值守多臺設(shè)備,生產(chǎn)效率高。 本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為:所述的研磨盤上設(shè)置兩個大閥瓣擋圈和一個小閥瓣擋圈。通過本設(shè)置,有效的利用研磨盤上的空間,同時滿足對不同工件的加工需求。 本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為:所述的周向擋板上設(shè)置兩個與閥瓣擋圈相切配合的滾輪。通過本設(shè)置,使閥瓣擋圈更好的作自轉(zhuǎn)運(yùn)動。 本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為:所述的減速機(jī)是擺線針輪減速機(jī)。本設(shè)置,擺線針輪減速機(jī)傳動穩(wěn)定、安全可靠、使用壽命長。 附圖說明 圖1為本實(shí)用新型正視圖的結(jié)構(gòu)示意圖; 圖2為本實(shí)用新型俯視圖的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖中標(biāo)號含義:1-機(jī)架; 2-罩架; 3-研磨盤; 4-中心軸; 5-聯(lián)軸器;6-減速器;7-大閥瓣擋圈;8-小閥瓣擋圈;9-周向擋板;10-滾輪;11-工件放置區(qū);12-大皮帶輪;13-小皮帶輪;14-電機(jī)。 具體實(shí)施方式 下面結(jié)合附圖和實(shí)施例,對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型,但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。 本實(shí)施例如圖1—圖2所示的一種閥瓣研磨機(jī),包括機(jī)架1,所述機(jī)架1上設(shè)置罩架2,罩架2內(nèi)安裝研磨盤3,研磨盤3中心固定連接中心軸4,中心軸4通過聯(lián)軸器5和減速機(jī)6與電機(jī)14傳動連接,帶動研磨盤3旋轉(zhuǎn),減速機(jī)6和電機(jī)14通過皮帶輪連接,減速機(jī)6上設(shè)置大皮帶輪12,電機(jī)14上設(shè)置小皮帶輪13,所述的減速機(jī)6為擺線針輪減速機(jī),擺線針輪減速機(jī)傳動穩(wěn)定、安全可靠、使用壽命長;研磨盤3上自然放置閥瓣擋圈,對應(yīng)罩架2上設(shè)置阻止閥瓣擋圈隨研磨盤3公轉(zhuǎn)的周向擋板9,所述周向擋板9上設(shè)置與閥瓣擋圈外壁相切配合的滾輪10,使閥瓣擋圈在周向力的作用下沿滾輪10作自轉(zhuǎn)。 進(jìn)行研磨工作時,研磨盤3內(nèi)放有研磨砂,工件放置于閥瓣擋圈內(nèi)的工件放置區(qū)11,中心軸4帶動研磨盤3作公轉(zhuǎn)運(yùn)動,自然放置在研磨盤3上的閥瓣擋圈會隨研磨盤3一起公轉(zhuǎn)運(yùn)動,但閥瓣擋圈受周向擋板9限制,不能作公轉(zhuǎn)運(yùn)動,研磨盤3公轉(zhuǎn)會給閥瓣擋圈一個周向力,在周向力的作用下閥瓣擋圈沿與其相切配合的滾輪10作自轉(zhuǎn)運(yùn)動,使閥瓣密封面研磨運(yùn)動軌跡,既有公轉(zhuǎn)又有自轉(zhuǎn),研磨效果好,且設(shè)計結(jié)構(gòu)簡單,操作靈活輕便,勞動強(qiáng)度低,一人可值守多臺設(shè)備,生產(chǎn)效率高。 研磨盤3上自然放置兩個大閥瓣擋圈7和一個小閥瓣擋圈8。通過本設(shè)置,有效的利用研磨盤3上的空間,同時滿足對不同工件的加工需求。 周向擋板9上設(shè)置兩個與閥瓣擋圈相切配合的滾輪10。通過本設(shè)置,使閥瓣擋圈更好的作自轉(zhuǎn)運(yùn)動。 本實(shí)施例中,研磨盤旋轉(zhuǎn)方向?yàn)轫槙r針方向旋轉(zhuǎn),不的反轉(zhuǎn)。 以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和變型,上述假設(shè)的這些改進(jìn)和變型也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[來源:原創(chuàng)] [作者:admin] [日期:15-07-27] [點(diǎn)擊:]

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